紫外線清潔技術的應用范圍

紫外線清潔技術的應用主要用于液晶顯示設備，半導體硅片，集成電路，高精度印刷電路板，光學設備，石英晶體，密封技術以及帶有氧化膜的金屬材料的生產過程中。 適當。

主要材料：ITO玻璃，光學玻璃，鉻板，掩模板，拋光的石英晶體，硅片和帶有氧化膜的金屬等，用于精密清潔。

可以去除污垢：有機污垢，人體皮脂，化妝品油，樹脂添加劑，聚酰亞胺，石蠟，松香，潤滑油，殘留的光致抗蝕劑等。

此UV光源具有UV改性的特性 （LCD的表面質量變化）。 目前，在LCD STN的生產過程中，它主要用于薄膜加工技術中。 薄膜之間的粘合非常有效，例如ITO薄膜和光敏薄膜層，TOP涂層和PI涂層等。此外，它還可以用于UV改性塑料材料產品的研究部門進行納米技術研究。 紫外線照射后，產品會發生化學反應，從而改變產品的表面性能。 在STN-LCD，彩色濾光片和OLED的生產過程中，某些過程設備相當相似，不同之處在于不同的制造過程要求。 隨著電路的細化和產品的色彩比例的提高，LCD行業對制造工藝的要求也在不斷提高，并且對“想做得好，必須先提高其工具的工人”的需求不斷提高，因此只有設備能力不斷提高 改善。 為了提高生產質量和效率。

本文章由三昆廠家整理原創，轉載請注明出處：http://m.www99kpkp.com/UVd/5465.html